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      Ta-C薄膜

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             Ta-C薄膜是非晶四面體碳膜的簡稱(Tetrahedral Amorphous Carbon)。Ta-C薄膜是以碳基材料為基礎,采用陰極磁過濾真空電弧技術,將碳原子中的sp3鍵濾出重新排列,實現了高sp3鍵微晶結構。該技術研制出的非晶四面體類金剛石薄膜具有超高硬度、低摩擦系數、耐腐蝕等優良性能,其摩擦學、化學、光學和物理特性是目前最接近天然金剛石的薄膜。目前衡量類金剛石薄膜質量最重要也是最尖端的技術指標是其sp3含量,黃金屋研制的Ta-C薄膜sp3鍵含量已經達到80%以上,這項指標是目前世界上已披露的同類薄膜的最高指標。這表明我司技術已創造了國際最先進水平。

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